真空泵镀膜是真空泵主要用途的一个关键层面，它是以真空设备为基本，运用物理学或有机化学方式，并消化吸收离子束、分子结构束、电子束、等电子束、频射和磁控等一系列新技术应用，为科研和具体生产制造出示薄膜制取的一种新技术新工艺。简易地说，在真空泵中把金属材料、铝合金或化学物质开展挥发或磁控溅射，使其在被涂敷的物件（称基钢板、衬底或基体）上凝结并沉积的方式，称之为真空泵镀膜。

大家都知道，在一些原材料的表面上，要是镶上一层薄膜，就能使原材料具备很多新的、优良的物理学和有机化学特性。二十世纪七十年代，在物件表面上镀膜的方式关键有电镀法和化学镀镍法。前面一种是根据接电源，使锂电池电解液电解法，被电解法的等离子喷涂到做为另一个电级的基体表面上，因而这类镀膜的标准，基体务必是电的良导体，并且薄膜薄厚也无法操纵。后面一种是选用有机化学还原法，务必把膜材配置成水溶液，并能快速报名参加氧化反应，这类镀膜方式不但薄膜的融合抗压强度差，并且镀膜既不匀称也不易控制，另外还会继续造成很多的废水，导致比较严重的环境污染。因而，这二种被大家称作湿试镀膜法的镀膜加工工艺遭受了非常大的限定。

真空泵镀膜则是相对性于所述的湿试镀膜方式而发展趋势起來的一种新式镀膜技术性，一般 称之为干试镀膜技术性。

归类

真空泵镀膜技术性一般分成两类，即物理学液相沉积（PVD真空镀膜）技术性和有机化学液相沉积（CVD）技术性。

物理学液相沉积技术性就是指在真空泵标准下，运用各种各样物理方法，将镀料汽化成分子、分子结构或使其离化作正离子，立即沉积到基体表面上的方式。制取硬质的反映膜大多数以物理学液相沉积方式制取，它运用某类物理学全过程，如化学物质的热挥发，或遭受离子轰击时化学物质表面分子的磁控溅射等状况，完成化学物质分子从源化学物质到薄膜的可控性迁移全过程。物理学液相沉积技术性具备膜/基结合性好、薄膜匀称高密度、薄膜薄厚可操控性好、运用的溅射靶材普遍、磁控溅射范畴宽、可沉积厚膜、可制得成份平稳的铝合金膜和可重复性好等优势。另外，物理学液相沉积技术性因为其处理工艺溫度可操纵在500℃下列，因而可做为最后的工艺处理用以弹簧钢和硬质合金刀具类的薄膜数控刀片上。因为选用物理学液相沉积加工工艺可大大提高数控刀片的加工性，大家在争相开发设计性能卓越、很高的可靠性机器设备的另外，也对其主要用途的拓展，尤其是在弹簧钢、硬质合金刀具和瓷器类数控刀片中的运用开展了更为深层次的科学研究。

有机化学液相沉积技术性是把带有组成薄膜原素的氢氧化物汽体或化学物质提供基体，依靠液相功效或基体表面上的化学变化，在基体上制成金属材料或化学物质薄膜的方式，关键包含过热蒸汽有机化学液相沉积、底压有机化学液相沉积和兼具CVD和PVD二者特性的低温等离子有机化学液相沉积等。