由于弧光放电的特性，大颗粒是多弧离子镀技术不可避免的缺陷。它的存在会影响涂层的加工质量，因此已经有人对此做了一些改善。在靶材表面加磁过滤管道，或者在基体和靶材之间增加挡板，是在文献中和zhuanli中能经常见到的一种方法，但是这些方法都在一定程度降低了涂层的沉积率，因此没有在实际生产中获得很好的应用。生产中常见采用机械抛光的方法。

下图就是机械抛光后涂层表面形貌的一个对比，去除效果很明显。这种涂层后处理方法由于效果明显，设备造价低，受到生产企业的青睐，在实际生产中得到了很好的应用。

另外我们也做了一些尝试，采用高能离子轰击来去除大颗粒，从下图来看，以TiN涂层为基础，在涂层沉积完成后，我们采用高能的铬离子对涂层的表面进行离子轰击，涂层表面的大颗粒也得到了一定程度的改善。