PVD真空镀膜设备的注意事项：开机时要先检查真空电镀设备水路的畅通性，确定真空电镀设备冷却塔、真空泵是否正常工作，检查真空电镀设备气路是否畅通，确定真空电镀设备空压机是否正常工作。真空电镀设备所镀制的氮化锆是一种浅黄色的膜层，真空电镀设备适用于某些氮化钛不太适合涂覆的领域。真空电镀设备具有高抗腐蚀性能，良好的光滑表面以及延展性。

   PVD真空镀膜设备是一种银灰色的膜层，真空电镀设备具有良好的附着性以及良好的耐腐蚀性和耐氧化性。真空电镀设备能够增强它们的润滑性和耐磨损性。目前真空电镀设备常见的颜色主要有：深金黄色，浅金黄色，蓝色等。

     基体资料的外表状况是影响掩盖才能的主要要素之一。实习标明，金属在不一样基体资料上电堆积时，同一镀液的掩盖才能不一样也很大。如用铬酸溶液镀铬，金属铬在铜、镍、黄铜和钢上堆积时，镀液的掩盖才能顺次递减。

    这是因为当金属离子在不一样的基体资料上复原堆积时，其过电位的数值有很大的不一样。过电位较小的分出电位较正，即便在电流密度较低的部位也能到达其分出电位的数值，因而其掩盖才能较好。基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。

     PVD真空镀膜镀层与基体之间的结合力、防腐性能和外观质量的好坏，与零部件镀前表面处理的优劣有着直接关系。附着于零件表面的油、锈、氧化皮等污物，就是妨碍电镀液与金属基体充分接触的中间障碍物，在这种表面上不可能形成合格的电镀层。当镀件上附着极薄的甚至肉眼看不见的油膜和氧化膜时，虽然得到外观正常、结晶细致的镀层，但是结合强度大为降低。